英特爾首批兩臺EUV 光刻機(jī)投產(chǎn)，單季 3 萬片晶圓產(chǎn)量驚人

by: admin 行業(yè)資訊 0 2025-03-07 15:02:13

2 月 26 日消息，英特爾公司當(dāng)?shù)貢r間周一宣布，其工廠已啟用 ASML 公司首批兩臺先進(jìn)光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。這一消息瞬間點燃行業(yè)熱情，讓英特爾再次成為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域關(guān)注的焦點。

產(chǎn)能與可靠性雙突破，優(yōu)勢顯著

在加利福尼亞州圣何塞的會議上，英特爾高級首席工程師史蒂夫?卡森（Steve Carson）披露了驚艷數(shù)據(jù)：憑借 ASML 的高數(shù)值孔徑（NA）光刻機(jī)，英特爾單季度成功產(chǎn)出 30,000 片晶圓。這些晶圓是芯片制造的關(guān)鍵基礎(chǔ)，每片能制造出數(shù)千顆芯片。尤為突出的是，新型光刻機(jī)的可靠性約為舊款機(jī)型的兩倍。卡森強(qiáng)調(diào)：“穩(wěn)定的晶圓生產(chǎn)速率，為整個平臺賦予了無可比擬的優(yōu)勢 ?！?/div>

昔日困境重重，今朝全力突圍

回顧往昔，英特爾在上一代極紫外（EUV）光刻機(jī)的應(yīng)用上落后于競爭對手。耗費七年時間才將舊款光刻機(jī)全面投入生產(chǎn)，期間的可靠性問題更是使其痛失對臺積電的領(lǐng)先地位。但如今，新型光刻機(jī)的投產(chǎn)成為英特爾扭轉(zhuǎn)局勢的關(guān)鍵契機(jī) 。

技術(shù)革新，降本增效明顯

新型 ASML 光刻機(jī)通過獨特的光束在芯片上打印特征，展現(xiàn)出強(qiáng)大的技術(shù)革新能力。它能以更少的曝光次數(shù)完成與舊款機(jī)器相同的工作，大幅節(jié)省時間和成本。英特爾工廠的早期數(shù)據(jù)顯示，高 NA 光刻機(jī)僅需一次曝光和 “個位數(shù)” 的處理步驟，就能完成舊款機(jī)器需要三次曝光和約 40 個處理步驟的任務(wù)。這一技術(shù)突破，無疑極大地提升了英特爾在芯片制造領(lǐng)域的競爭力。

布局未來，技術(shù)藍(lán)圖初現(xiàn)

英特爾計劃借助高 NA 光刻機(jī)大力推動其 18A 制造技術(shù)的研發(fā)，該技術(shù)預(yù)計今年晚些時候?qū)⑴c新一代 PC 芯片一同大規(guī)模生產(chǎn)。英特爾還打算在下一代制造技術(shù) 14A 中全面應(yīng)用高 NA 光刻機(jī)，雖然 14A 技術(shù)大規(guī)模生產(chǎn)的日期尚未公布，但已讓行業(yè)對英特爾的未來充滿遐想。

億配芯城（ICgoodFind）認(rèn)為，英特爾引入 ASML 高 NA EUV 光刻機(jī)，是其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的關(guān)鍵戰(zhàn)略布局。這不僅有望重塑英特爾在行業(yè)中的競爭地位，也將推動整個芯片制造技術(shù)的發(fā)展與革新。億配芯城（ICgoodFind）將持續(xù)關(guān)注英特爾及行業(yè)動態(tài)，憑借自身在電子元器件領(lǐng)域的專業(yè)優(yōu)勢，為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)，助力行業(yè)在技術(shù)浪潮中不斷前行。

文章標(biāo)簽：英特爾，光刻機(jī) ，晶圓